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等離子清洗機

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PlasmaStar 200/200 RIE等離子刻蝕機

PlasmaSTAR®模塊化腔室和電極組件是該系統(tǒng)的*功能。腔室材料是硬質(zhì)陽極氧化鋁，有幾種不同的電極設(shè)計，包括用于反應(yīng)離子刻蝕（RIE）和平面處理的水冷平板電極，用于表面清洗或處理的交替多層托盤電極，用于小化離子損傷的下游電極，和用于普通的圓柱形籠式電極。

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廠商性質(zhì)：代理商

更新日期：2024-05-16

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PlasmaStar 100/100 RIE反應(yīng)離子刻蝕機PlasmaStar 100

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廠商性質(zhì)：代理商

更新日期：2024-05-16

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PlasmaSTAR® 100/200等離子處理系統(tǒng)

PlasmaSTAR®系列等離子處理系統(tǒng)適合處理所有的材料。 PlasmaSTAR®系統(tǒng)擁有多種腔室和電極配置，可滿足不同的等離子工藝和基片尺寸。

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廠商性質(zhì)：代理商

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