NXQ掩膜對準(zhǔn)曝光機(jī)

品牌：恩科優(yōu)（N&Q）

產(chǎn)地：美國

    恩科優(yōu)光刻機(jī)分為半自動(dòng)和全自動(dòng)兩大系列。其中，N&Q4000系列光刻機(jī)是以半自動(dòng)系統(tǒng)為主。該系統(tǒng)*的操作性，超高的分辨率，均勻的光學(xué)系統(tǒng)，現(xiàn)代*接近式和接觸式光刻及超高的性價(jià)比，使恩科優(yōu)光刻系統(tǒng)已經(jīng)被全國各地眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校采用，并成為他們光刻系統(tǒng)的*；

二、技術(shù)參數(shù)：

1、芯片尺寸：5mm~150mm的圓片/方片和不規(guī)則碎片（支持對不規(guī)則碎片的特殊卡盤設(shè)計(jì)）；

2、曝光波長：350nm-450nm（其它波長可選配）；

3、汞燈功率：350W/500W（其它功率可選配）；

4、分辨率：優(yōu)于0.5um；

5、曝光模式：支持接近式曝光，各種接觸式（真空接觸、軟接觸、硬接觸等）曝光；

6、出射光強(qiáng)范圍：10mW/cm2~55mW/cm2@405nm；

7、支持恒定光強(qiáng)或恒定功率模式；

8、曝光時(shí)間：0.1~999.9s；

9、對準(zhǔn)精度：雙高清彩色CCD + 雙高清彩色監(jiān)視器，對準(zhǔn)精度可達(dá)到0.4微米內(nèi)；

10、掩膜尺寸：2 x 2英寸到 9 x 9英寸(2 x 2英寸需要掩膜轉(zhuǎn)換器)；

11、光強(qiáng)均勻性Uniformity：

<±1% over 2” 區(qū)域；

<±2% over 4” 區(qū)域；

<±3% over 6” 區(qū)域；

12、雙面光刻：具備背面紅外對準(zhǔn)（IR BSA）和光學(xué)背面對準(zhǔn)（OBS BSA），雙面對準(zhǔn)精度≤2μm；

13、電源：高靈敏度光強(qiáng)可控電源。

可選型號：

NXQ400-6 

NXQ400-8

NXQ800-6

NXQ8006 Sapphire

NXQ800-8

三、產(chǎn)品特點(diǎn)：

可選支持單面對準(zhǔn)和雙面對準(zhǔn)設(shè)計(jì)；

高清晰彩色雙CCD鏡頭采用的分裂視場顯微鏡鏡頭（基于無限遠(yuǎn)修正的CCD鏡頭設(shè)計(jì)）；雙頭高清全彩物鏡（單視場或分裂視場可供用戶靈活選擇）；

高清彩色雙顯示屏；

全新氣動(dòng)軸承導(dǎo)軌設(shè)計(jì)，高精準(zhǔn)，低磨損，無需售后維護(hù)的；

具有自動(dòng)執(zhí)行楔形誤差補(bǔ)償，并在找平后自動(dòng)定位功能；

操作簡易，具有支持多操作員同臺使用的友好操作界面；

操控手柄調(diào)控模式的*設(shè)計(jì)；

采用LED穿透物鏡照明技術(shù)，具有*對準(zhǔn)亮度；

采用基于無限遠(yuǎn)修正的顯微鏡鏡頭架構(gòu)；

抗衍射反射的高效光學(xué)光路設(shè)計(jì)；

帶安全保護(hù)功能的溫度和氣流傳感器；

全景準(zhǔn)直透鏡光線偏差半角: <1.84度；

設(shè)備穩(wěn)定性，耐用性超高；

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