德國(guó)osiris顯影機(jī)：DEVELOPER

顯影機(jī)DEVELOPER

晶圓顯影機(jī)的用途包括：

1. 光刻工藝：在半導(dǎo)體制造中，光刻工藝是一種關(guān)鍵的工藝步驟，用于在晶圓表面形成微細(xì)的圖案，以定義電路和器件的結(jié)構(gòu)。晶圓顯影機(jī)用于對(duì)光刻膠進(jìn)行顯影處理，形成所需的圖案。

2. 芯片制造：晶圓顯影機(jī)也用于芯片制造過(guò)程中的顯影步驟，幫助形成芯片上的電路圖案和結(jié)構(gòu)。

3. 微納加工：除了半導(dǎo)體制造，晶圓顯影機(jī)還可以應(yīng)用于微納加工領(lǐng)域，用于制造微米級(jí)甚至納米級(jí)的器件和結(jié)構(gòu)。

顯影機(jī)在半導(dǎo)體制造和微納加工領(lǐng)域起著至關(guān)重要的作用，幫助實(shí)現(xiàn)微電子元件的精密制造和微米級(jí)結(jié)構(gòu)的加工。

1. UNIXX D20 高級(jí)版

（直徑200mm）帶有可移動(dòng)飛濺環(huán)的獨(dú)立系統(tǒng)，用于手動(dòng)裝載/卸載單個(gè)基材。

2.UNIXX D30標(biāo)準(zhǔn)

（?300毫米）單機(jī)系統(tǒng)為用戶提供

在科學(xué)方面，以及具有高效、安全和清潔系統(tǒng)的研究。