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原子層沉積

簡要描述:占地面積小的桌面系統(tǒng)(&lt; 0.15 立方米 | 2.5 平方英尺)
具有超快 MFC 的高溫兼容快速脈沖 ALD 閥,用于集成惰性氣體吹掃。
4 英寸圓形卡盤可定制,適用于較小尺寸或其他形狀(11 毫米高)。
3 種有機金屬前體和 2 種(最多 3 種)反反應物。
整個加熱管線(從前體到腔室)。
高曝光(用于溝槽和多孔基板)和靜態(tài)處理模式
全鋁(半導體級)腔室 ? 范圍高達 310&#176;C

  • 產(chǎn)品型號:AT410
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時間:2024-05-17
  • 訪  問  量:755

產(chǎn)品分類

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詳細介紹

  •  

    占地面積小的桌面系統(tǒng),兼容無塵室。

  • 占地面積小的桌面系統(tǒng)(< 0.15 立方米 | 2.5 平方英尺)

  • 具有超快 MFC 的高溫兼容快速脈沖 ALD 閥,用于集成惰性氣體吹掃。

  • 4 英寸圓形卡盤可定制,適用于較小尺寸或其他形狀(11 毫米高)。

  • 3 種有機金屬前體和 2 種(最多 3 種)反反應物。

  • 整個加熱管線(從前體到腔室)。

  • 高曝光(用于溝槽和多孔基板)和靜態(tài)處理模式

  • 全鋁(半導體級)腔室 ? 范圍高達 310°C

  • 7″ 觸摸屏 PLC 控制器(無需 PC)

  • 包括終身軟件升級

  • 1 年保修(包括零件)

  • AT610

  • 全鋁(半導體級)腔室 ? 范圍高達 310°C

  • 具有超快 MFC 的高溫半導體級快速脈沖 ALD 閥,用于集成惰性氣體吹掃。

  • 6″ 圓形卡盤(7″ 方形)可定制為更小的尺寸或其他形狀(11 毫米高)。

  • 流線型腔體設計,腔體體積小

  • 3 種有機金屬前體和 2 種(最多 3 種)反反應物。

    • 前體可以加熱到 150°C。

  • 整個加熱管線(從前體到腔室)。

  • 簡單的系統(tǒng)維護和市場上的公用事業(yè)和前體使用

  • 高曝光(用于溝槽和多孔基板)和靜態(tài)處理模式

  • 7″ 觸摸屏 PLC 控制器(無需 PC)

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