當前位置:首頁 > 產(chǎn)品中心 > > > AT410原子層沉積
簡要描述:占地面積小的桌面系統(tǒng)(< 0.15 立方米 | 2.5 平方英尺)具有超快 MFC 的高溫兼容快速脈沖 ALD 閥,用于集成惰性氣體吹掃。4 英寸圓形卡盤可定制,適用于較小尺寸或其他形狀(11 毫米高)。3 種有機金屬前體和 2 種(最多 3 種)反反應物。整個加熱管線(從前體到腔室)。高曝光(用于溝槽和多孔基板)和靜態(tài)處理模式全鋁(半導體級)腔室 ? 范圍高達 310°C
產(chǎn)品分類
相關文章
Related Articles詳細介紹
占地面積小的桌面系統(tǒng),兼容無塵室。
占地面積小的桌面系統(tǒng)(< 0.15 立方米 | 2.5 平方英尺)
具有超快 MFC 的高溫兼容快速脈沖 ALD 閥,用于集成惰性氣體吹掃。
4 英寸圓形卡盤可定制,適用于較小尺寸或其他形狀(11 毫米高)。
3 種有機金屬前體和 2 種(最多 3 種)反反應物。
整個加熱管線(從前體到腔室)。
高曝光(用于溝槽和多孔基板)和靜態(tài)處理模式
全鋁(半導體級)腔室 ? 范圍高達 310°C
7″ 觸摸屏 PLC 控制器(無需 PC)
包括終身軟件升級
1 年保修(包括零件)
AT610
全鋁(半導體級)腔室 ? 范圍高達 310°C
具有超快 MFC 的高溫半導體級快速脈沖 ALD 閥,用于集成惰性氣體吹掃。
6″ 圓形卡盤(7″ 方形)可定制為更小的尺寸或其他形狀(11 毫米高)。
流線型腔體設計,腔體體積小
3 種有機金屬前體和 2 種(最多 3 種)反反應物。
前體可以加熱到 150°C。
整個加熱管線(從前體到腔室)。
簡單的系統(tǒng)維護和市場上的公用事業(yè)和前體使用
高曝光(用于溝槽和多孔基板)和靜態(tài)處理模式
7″ 觸摸屏 PLC 控制器(無需 PC)
產(chǎn)品咨詢
歡迎您關注我們的微信公眾號了解更多信息