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當(dāng)前位置:首頁(yè)   >  產(chǎn)品中心  >  掩膜曝光光刻機(jī)  >  Mask Aligner系列  >  MEMA-800光刻機(jī)Mask Aligner

光刻機(jī)Mask Aligner

簡(jiǎn)要描述:MYCRO*荷蘭光刻機(jī)(光刻機(jī)Mask Aligner),是的光刻系統(tǒng),為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng),廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體(LED)芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。

  • 產(chǎn)品型號(hào):MEMA-800
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時(shí)間:2024-05-17
  • 訪  問(wèn)  量:1784

詳細(xì)介紹

光刻機(jī)分為半自動(dòng)和全自動(dòng)兩大系列。MEMA-800是研發(fā)中心和大學(xué)中的微機(jī)開(kāi)發(fā)。操縱器,壓力傳感器,加速度傳感器,功率設(shè)備等。倒裝芯片/BGA/CSP的暴露。暴露于光學(xué)/高速通信組件中。

二、技術(shù)參數(shù):

1、目標(biāo)分離15?75毫米

2、總放大倍率100倍;

3、觀察照明器紅色LED(λ= 633 nm)

4、X,Y平臺(tái)移動(dòng)范圍±5毫米;

5、θ調(diào)整±5°

6、主體電源和水銀燈交流100V 50 / 60Hz 15A

7、真空源低于21.3 Kpa(大氣壓為-80 Kpa)

8、鏡片:積分鏡

9、汞燈:250W超高壓蒸汽汞燈

10、有效接觸面積:大φ100毫米

11、強(qiáng)度分布:±5%以下

12、照度20 mW / cm 2  (405納米)

13、曝光時(shí)間控制數(shù)字計(jì)時(shí)器和旋轉(zhuǎn)螺線管

14、汞燈照明裝置交流110V

 

三、產(chǎn)品特點(diǎn):

經(jīng)濟(jì),緊湊和高級(jí)性能
在視場(chǎng)中查看兩個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的融合圖像。
用于曝光的積分鏡。
LED照明器

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