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顯微分光光度計(jì)DUV-VIS-NIR

簡要描述:顯微分光光度計(jì)DUV-VIS-NIR(Micro-Photometer,Micro Spectrophotometer)用于表征在微米區(qū)域內(nèi)的薄膜,厚涂層的光學(xué)特性。顯微分光光度計(jì)也稱為微反射計(jì),顯微光譜儀,顯微光度計(jì),顯微光譜光度計(jì)等。用戶可實(shí)時(shí)視頻,強(qiáng)大的數(shù)字編輯,反射測量工具享受顯微光譜儀(MSP系列)的數(shù)字成像功能,透射,吸收光譜,數(shù)據(jù)采集僅需幾毫秒。

  • 產(chǎn)品型號:MSP100/MSP300/MSP500
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時(shí)間:2024-05-17
  • 訪  問  量:2071

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詳細(xì)介紹

顯微分光光度計(jì)DUV-VIS-NIR

型號:MSP100/MSP300/MSP400/MSP450/MSP500

顯微分光光度計(jì)(Micro-Photometer,Micro Spectrophotometer)用于表征在微米區(qū)域內(nèi)的薄膜,厚涂層的光學(xué)特性。顯微分光光度計(jì)也稱為微反射計(jì),顯微光譜儀,顯微光度計(jì),顯微光譜光度計(jì)等。用戶可實(shí)時(shí)視頻,強(qiáng)大的數(shù)字編輯,反射測量工具享受顯微光譜儀(MSP系列)的數(shù)字成像功能,透射,吸收光譜,數(shù)據(jù)采集??僅需幾毫秒。TFProbe軟件允許用戶設(shè)置加熱階段或冷卻階段以實(shí)時(shí)進(jìn)行動力學(xué)研究,以了解光學(xué)性質(zhì)的變化,例如反射率,透射率,涂層厚度,折射率(光學(xué)常數(shù))等。在具有電動XY載物臺或Rho-Theta載物臺的各種顯微分光光度計(jì)型號中,還提供自動映射功能,以及電動聚焦功能。波長范圍通常是用戶要考慮的重要因素。此顯微分光光度計(jì)涵蓋從深紫外線(DUV)到近紅外(NIR)范圍。應(yīng)該考慮哪個范圍取決于幾個因素,例如薄膜或厚涂層的厚度范圍是多少,反射率或透射率光譜的典型波長范圍是什么等等。顯微分光光度計(jì)已用于各個領(lǐng)域,例如納米晶圓廠,法醫(yī),醫(yī)學(xué),MEMSMEOMS,生物,化學(xué)等。

 

我們提供了三種分光光度計(jì)的標(biāo)準(zhǔn)配置。MSP100覆蓋2501000nmDUV-Vis)。系統(tǒng)將附帶一個DUV-Vis全范圍物鏡。MSP300的波長范圍為4001000nm,用于可見反射或透射光譜測量。MSP300適用于厚膜厚度測量。MSP500涵蓋從DUVNIR的全范圍(250-1700nm)??梢宰远x其他波長范圍或功能以滿足您的應(yīng)用。

 

應(yīng)用范圍:

半導(dǎo)體制造(PR,氧化物,氮化物..

液晶顯示器(ITOPR,液晶盒間隙…..

法醫(yī),生物膜和材料

油墨,礦物學(xué),顏料,碳粉

藥品,醫(yī)療器械

光學(xué)涂料,TiO2,SiO2Ta2O5..

半導(dǎo)體化合物

MEMS / MOEMS中的功能膜

非晶,納米和晶體硅

PET上的硬涂層

 

特征:

*光學(xué)器件和堅(jiān)固的設(shè)計(jì)可實(shí)現(xiàn)較長的正常運(yùn)行時(shí)間和好的系統(tǒng)性能

基于陣列的探測器系統(tǒng)可確??焖贉y量

價(jià)格合理,便攜式且占地面積小的桌面設(shè)計(jì)

在微米尺寸區(qū)域內(nèi)多可測量5層膜的厚度和折射率

允許以毫秒為單位獲取反射,透射和吸收光譜

能夠用于實(shí)時(shí)光譜,厚度,折射率監(jiān)測

系統(tǒng)附帶全面的光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)庫和庫

*軟件允許用戶為每個單獨(dú)的膠片使用NK表,色散或合成模型(EMA

集成的視覺,光譜,模擬,膜厚測量系統(tǒng)

適用于許多不同類型的基板,具有不同的厚度和尺寸

深紫外線可以測量超薄膜的厚度及其帶隙

2D3D輸出圖形用于映射功能和用戶友好的數(shù)據(jù)管理界面

*成像軟件可進(jìn)行尺寸測量,例如角度,距離,面積,顆粒計(jì)數(shù)等

提供多種選項(xiàng)以滿足特殊應(yīng)用

 

系統(tǒng)配置:

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