MINN M6勻膠旋涂儀

MINN M6勻膠旋涂儀 可旋涂處理小碎片至6英寸圓晶圓片，使用無刷直流雙向旋轉(zhuǎn)馬達(dá)控制，轉(zhuǎn)速穩(wěn)定，控制器可拆卸配合手套箱使用，4.3英寸全彩觸屏人機(jī)界面操作，簡單易用。M6 Spin Coater外形美觀，結(jié)構(gòu)緊湊，專為實(shí)驗(yàn)室，研發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)部門提供性價比高的勻膠涂覆設(shè)備。MINN M6勻膠旋涂儀 在材料、化學(xué)或生物等實(shí)驗(yàn)室被廣泛用于薄膜制備，納米薄膜研究等相關(guān)領(lǐng)域。

二、技術(shù)參數(shù)

▲1.保護(hù)氣體裝置：旋涂過程中對旋轉(zhuǎn)馬達(dá)進(jìn)行氣流保護(hù)（可選擇取消）；

2.支持Wafer尺寸：小標(biāo)配為10 mm，可選配到3mm或5mm；大到直徑6英寸（150mm）的圓片或邊長5x5英寸（125x125mm）的方片，無需更換片托；

3.設(shè)備材質(zhì)：全部采用易清潔的NPP天然聚丙烯材質(zhì)，環(huán)保，抗震，耐腐蝕；

▲4.無刷馬達(dá)：直流雙向旋轉(zhuǎn)，正反旋轉(zhuǎn)速度±100~±12000rpm，穩(wěn)定性能誤差±1rpm；

5.馬達(dá)安全模式：可設(shè)置非真空模式，轉(zhuǎn)速3000rpm，加速度500rpm/s；

6.加速度可控范圍：100-30000RPM/S；

7.工藝時間：每步可以設(shè)定45小時，精度不超過0.1秒；

8. PLC控制：4.3英寸全彩觸摸屏高精度PLC可編程的控制器；

9.程序段：可存儲99個程序段，每個程序段可設(shè)置50個不同步驟的速度狀態(tài)；

10.無油真空泵：220V/50Hz；真空吸附范圍25-28 英寸汞柱 (~635-711毫米汞柱)可調(diào)節(jié)；

11.擴(kuò)展功能：可升級預(yù)留端口，可擴(kuò)展自動滴膠裝置、自動去邊裝置、手動去邊等選配項。

三、設(shè)備性能特點(diǎn)

馬達(dá)控制：無刷直流雙向旋轉(zhuǎn)；

智能程控：控制器可拆卸，4.3英寸寸全彩觸屏，配有智能觸碰筆，按鍵有提示音，選中功能有顏色區(qū)分，適用于手套箱；

腔體材質(zhì)：易清潔的NPP天然聚丙烯材質(zhì)，抗腐蝕性；

模式切換：可自由切換單步模式、多步模式和曲線分析圖；

防止堵膠：雙真空腔設(shè)計；

預(yù)留端口：可升級擴(kuò)展其他多種選配項；

密碼功能：設(shè)有開機(jī)密碼和管理員密碼，管理員有權(quán)限修改核心參數(shù)；

安全報警：系統(tǒng)蓋板嵌鎖、真空異常、通氣異常、系統(tǒng)進(jìn)膠、馬達(dá)轉(zhuǎn)速異常均會報警，通過聲音和界面對話框提示；

氣流保護(hù)：旋涂過程中對馬達(dá)進(jìn)行氣流保護(hù)（也可選擇取消），易維護(hù)，易清潔，大幅提高馬達(dá)使用壽命；

四、應(yīng)用領(lǐng)域

• 半導(dǎo)體芯片制造
• 鈣鈦礦太陽能電池制備
• 微納和微流控
• 納米薄膜
• 高分子材料
• 有機(jī)光伏
• 有機(jī)發(fā)光二極管
• 有機(jī)場效應(yīng)晶體管&薄膜晶體管
• 石墨烯&二維材料

主營產(chǎn)品：

Laurell勻膠機(jī)     

Harrick等離子清洗機(jī)

Thetametrisis膜厚儀  

Microxact探針臺

ALD原子層沉積系統(tǒng)

TRION反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

Uvitron紫外固化箱

NXQ紫外曝光光刻機(jī)       

Novascan紫外臭氧清洗機(jī)

Nilt納米壓印機(jī)

Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加熱板

Annealsys高溫退火爐

Kinematic程序剪切儀

Laurell EDC系統(tǒng)，濕站系統(tǒng)     

Wabash/Carver自動壓片機(jī)