當前位置:首頁 > 產(chǎn)品中心 > 快速退火爐 > SSI系列 > Solaris 100 /150/200SSI快速退火爐
簡要描述:SSI快速退火爐系統(tǒng)是一個簡單穩(wěn)定的熱處理系統(tǒng),適合于廣泛大尺寸為直徑2~8英寸的基片材料和結(jié)構(gòu)的快速熱低溫退火(RTA),(如電子級硅、鋼鐵、玻璃、單晶硅、III-V族化合物、II-VI族化合物、鍺、超導體、陶瓷等等)。
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美國RTP系列的快速退火爐溫度均勻度≤1%,處理的大尺寸可以達到200mm,溫度可以達到1200攝氏度,處理過程可以在真空環(huán)境或者惰性氣體的環(huán)境中執(zhí)行,做多可支持4~6路進氣,可以用到的氣體包含N2,O2,N2H2,Ar和H2。
基于PID處理控制器的Solaris GUI可以存儲程序,每套程序可以支持高達100個步驟的設定,帶USB2.0的接口。包含Solaris GUI 軟件,與微軟Windows操作系統(tǒng)兼容。通過該軟件,通過鏈接電腦可以非常方便地實現(xiàn)程序編輯以及數(shù)據(jù)記錄。
技術(shù)規(guī)格:
- 溫度:1200攝氏度;
- 升溫速率:150攝氏度/秒;
- 溫控均勻性:±2.5℃設定溫度;
- 加熱方式:紅外鹵素燈,頂部及底部區(qū)域加熱;
- 處理時間:0.1秒至無*;
- 燈管數(shù)量及功率:13支,
- 腔體冷卻:風冷方式;
- 襯底冷卻:氮氣吹掃;
- 工藝氣路:MFC控制,多6路 (氮氣、氬氣、氧氣、氫氮混合氣等);
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