CNI v3.0PV桌面納米壓印機(jī)

CNI v3.0 PV是用于納米壓印和熱壓印的小型桌面工具，可完成微米和納米結(jié)構(gòu)從模板復(fù)制到基質(zhì)。

CNI v3.0 PV納米壓印機(jī)可以執(zhí)行熱壓印以及紫外壓印，CNI納米壓印機(jī)是納米復(fù)制的完美起點(diǎn)，同時(shí)也支持成熟和高級的開發(fā)工作，納米壓印機(jī)操作簡單，堅(jiān)固耐用，便于非標(biāo)準(zhǔn)流程和新實(shí)驗(yàn)。

易于安裝    即插即用（不到20分鐘的時(shí)間內(nèi)就可運(yùn)行工作）

優(yōu)勢        憑借其熱壓印和紫外壓印的功能，如果需要，在真空中，CNI v3.0 PV納米壓印機(jī)在其產(chǎn)品中是非常好的，并支持許多不同的技術(shù)和工藝。

使用方便    無需查看使用手冊，每個(gè)人都能使用；

緊湊尺寸    26*30*14cm(120mm腔室的尺寸)；

            42*44*14cm(210mm腔室的尺寸)；

安裝        CNI結(jié)構(gòu)緊湊，無需固定安裝；

高質(zhì)量壓印  能夠?qū)⑿∮?0nm的結(jié)構(gòu)復(fù)制到大于100µm的結(jié)構(gòu)；

多功能      可使用任何尺寸的印章和模板，直徑大210mm(8英寸)圓形的模板；

技術(shù)支持    提供個(gè)性化支持，專注于您的加工需求；

特征：桌面大小的納米壓印工具

    熱壓印溫度高達(dá)250℃

  紫外納米壓印，365nm曝光(or 405nm–自定義選項(xiàng))

壓印壓力從0.3到11bar

      在真空壓印1mbar

      印章和基材尺寸：直徑可達(dá)210mm

      印章和基材沒有固定的樣式

堅(jiān)固且易于使用

手動(dòng)裝卸印章和模板

自動(dòng)程控

軟件操作界面簡單

可記錄所有步驟和流程

CNI V3.0支持許多不同的技術(shù)：

熱納米壓印

UV納米壓印

熱壓印

微米結(jié)構(gòu)壓印

聚合物粘合

舉例：

納米結(jié)構(gòu)壓印

微結(jié)構(gòu)壓印

硅片上納米間距的光柵壓印

在軟性的基材上壓?。ㄈ鏘II-V材料，InP）

印章生產(chǎn)

高縱橫比結(jié)構(gòu)的熱壓印

聚合物熱壓印

熱聚合物粘合

要求：

現(xiàn)場安裝的技術(shù)要求

壓縮干燥空氣或氮?dú)鈮毫?-11bar，外徑6mm連接器，流量至少應(yīng)該1/2標(biāo)準(zhǔn)L/min；

在10mm外徑連接器中，真空度優(yōu)于0.1mbar（如果有真空選項(xiàng)）；

功率：110-240V (50-60HZ， 大于200W)；

環(huán)境

應(yīng)安裝在干凈、無塵和無顆粒的環(huán)境，以達(dá)到Z佳效果；

工作溫度范圍10-35℃；

工作濕度范圍30-70%；

其他

增壓器：如果你的實(shí)驗(yàn)室不能提供高于6 bar的壓縮空氣壓力，NILT可以提供一個(gè)增壓器，可以將3-5 bar加到6-10 bar；

真空泵選項(xiàng)：NILT建議使用Edwards nXDS6i干式渦旋真空泵。任何其他相似或更好規(guī)格的泵也可正常工作；

規(guī)格：

壓力：0.3-11bar

溫度：高達(dá)200℃，精度+/-1℃，可選高溫模塊，適用于250℃

紫外線曝光:在120mm腔室中，波長為365mm或405 nm的紫外線LED燈，光功率為12 W，在210 mm腔室中為~100mW/cm2或~165mW/cm2的光功率為57W

真空：可將腔室抽真空至低于1mbar的壓力

腔室尺寸：- 直徑120毫米，高度20毫米(大可擴(kuò)展到45毫米)

          - 直徑為210毫米，高度大為20毫米(無法擴(kuò)展)

自動(dòng)復(fù)制過程：手動(dòng)裝載印章和基材;通過CNI軟件控制，整個(gè)復(fù)制過程*自動(dòng)化軟件：全程控制和靈活性  除了裝載和卸載之外的所有東西都由軟件處理

CNI定制： 可根據(jù)您的需求定制

在線視頻說明：在線安裝視頻和操作提示

可選項(xiàng)： 增壓器可將實(shí)驗(yàn)室壓縮空氣供應(yīng)從3-5bar提升至6-10bar，由NLT人員進(jìn)行培訓(xùn)和/或安裝