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當前位置:首頁   >  產(chǎn)品中心  >  等離子清洗機  >  SCE射頻等離子清洗系統(tǒng)  >  SCE1818Anatech等離子體表面處理機

Anatech等離子體表面處理機

簡要描述:應用:
芯片封裝,工業(yè)應用,醫(yī)學應用等,是小尺寸實驗室R&D 或小規(guī)模生產(chǎn)的理想選擇。

  • 產(chǎn)品型號:SCE1818
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2024-05-16
  • 訪  問  量:1786

詳細介紹

Anatech等離子體表面處理機表面處理工藝:

1、清洗

去除納米級的殘留物

加強打線鍵合前的粘著性

2、滅菌處理

去除表面殘留微生物

3、表面刻蝕

例如PTFE表面刻蝕或者硅表面微結構

4、活化

渲染表面的親水性或疏水性

鍵合和沉積前的表面預處理

5、聚合處理

沉積帶官能分子團的聚合物

等離子活化表面

移植聚合物到活化后的材料表面

 Anatech等離子體表面處理機應用領域

REM TEM分析、考古學、小規(guī)模生產(chǎn)線

人造橡膠工業(yè)、塑料工業(yè)、汽車工業(yè)、紡織工業(yè)

半導體研發(fā)中心、半導體制造工廠

制藥技術、傳感技術

殺菌處理

技術參數(shù):

型號(Modle)

SCE1018

SCE1414

SCE1818

SCE1840

SCE2424

SCE2440

SCE3030

腔室尺寸(HxD,mm

直徑254,深度457

356

457

直徑457,深度1016

610

直徑457,深度1016

762

腔體容積(L

23.2

45

95.6

166.7

227

296.4

442

腔體材質

鋁質艙體

鋁質艙體

鋁質艙體

鋁質艙體

鋁質艙體

鋁質艙體

鋁質艙體

腔體形狀

圓柱體

立方腔體

立方腔體

圓柱體

立方腔體

圓柱體

立方腔體

頻率(MHz)

13.56

13.56

13.56

13.56

13.56

13.56

13.56

功率RF (W)

0~125

0~600

0~600

0~600

0~600

0~1000

0~1000

可選功率

RF(W)

300/1000

300/1000

1000

300/1000

1000

600

600

控制方式

手動

自動調(diào)諧

自動調(diào)諧

自動調(diào)諧

自動調(diào)諧

自動調(diào)諧

自動調(diào)諧

外形尺寸 HxD, mm

559 x 915 x 686

559 x 915 x 686

711 x1651 x 711

N/L

864x1829 x 813

N/L

915 x1829 x915

泵抽氣速率

(立方英尺/min)

3.8CFM

23.3CFM

42.4CFM

42.4CFM

42.4CFM

66CFM

66CFM

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