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等離子體表面活化處理機(jī)

簡要描述:應(yīng)用:
芯片封裝,工業(yè)應(yīng)用,醫(yī)學(xué)應(yīng)用等,是小尺寸實(shí)驗(yàn)室R&D 或小規(guī)模生產(chǎn)的理想選擇。

  • 產(chǎn)品型號:SCE115
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時(shí)間:2024-05-16
  • 訪  問  量:1773

詳細(xì)介紹

等離子體表面活化處理機(jī)表面處理工藝:

1、清洗                          

去除納米級的殘留物

加強(qiáng)打線鍵合前的粘著性

2、滅菌處理

去除表面殘留微生物

3、表面刻蝕

例如PTFE表面刻蝕或者硅表面微結(jié)構(gòu)

4、活化

渲染表面的親水性或疏水性

鍵合和沉積前的表面預(yù)處理

5、聚合處理

沉積帶官能分子團(tuán)的聚合物

等離子活化表面

移植聚合物到活化后的材料表面

 

等離子體表面活化處理機(jī)應(yīng)用領(lǐng)域

REM TEM分析、考古學(xué)、小規(guī)模生產(chǎn)線

人造橡膠工業(yè)、塑料工業(yè)、汽車工業(yè)、紡織工業(yè)

半導(dǎo)體研發(fā)中心、半導(dǎo)體制造工廠

制藥技術(shù)、傳感技術(shù)

殺菌處理

技術(shù)參數(shù):

型號(Modle)

SCE104

SCE106

SCE108

SCE110

SCE115

SCE150

SCE604

腔室尺寸

(Φ*L mm

102 x 203

152 x 203

202 x 203

254 x 457

381 x 457

254 x457

帶平行極板

102 x 203

4

腔體容積(L

1.65

3.71

6.6

23.2

52.1

23.2

1.65

腔體材質(zhì)

石英艙體

石英艙體

石英艙體

石英艙體

石英艙體

石英艙體

石英艙體

腔體形狀

圓柱體

圓柱體

圓柱體

圓柱體

圓柱體

圓柱體

圓柱體

頻率(MHz)

13.56

13.56

13.56

13.56

13.56

13.56

13.56

功率RF (W)

0~150

0~150

0~600

0~600

0~1000

0~300

0~600

可選功率

RF(W)

300

300

1000

300/1000

300/600

600/1000

300/1000

控制方式

手動

手動

自動調(diào)諧

自動調(diào)諧

自動調(diào)諧

手動

自動調(diào)諧

外形尺寸 HxD, mm

584 x 660 x 762

584 x 660 x 762

584 x 660 x 762

560 x 914 x 711

711 x1626 x 813

N/L

915 x 915 x 1829

泵抽氣速率

(立方英尺/min)

3.8CFM

3.8CFM

3.8CFM

23.3CFM

42.4CFM

14.7CFM

23CFM

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