當前位置:首頁 > 產品中心 > 濕法刻蝕顯影清洗系統(tǒng) > EDC系列 > EDC-650Hz-23NPPBLaurell-EDC勻膠顯影機
簡要描述:Laurell-EDC勻膠顯影機系列勻膠顯影系統(tǒng)適用于半導體前段制程的勻膠,顯影,刻蝕,沖洗,甩干等工藝,可通過程序控制多路試劑的顯影和濕法腐蝕,我們有著近三十年半導體濕法工藝的經驗積累,通過對各路試劑注射的控制,對氮氣和去離子水綜合應用,能夠完整實現(xiàn)樣片的干進干出。是當今*和經濟的濕法處理解決方案。
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Laurell-EDC勻膠顯影機(英文名:Developing) 型號:EDC-650Hz-23NPPB 產地:美國 一、產品概述: Laurell-EDC勻膠顯影機適應于半導體、化工材料、硅片、晶片、基片、導電玻璃等工藝,制版的表面顯影。一般勻膠顯影機由動力系統(tǒng)、顯影液槽及噴液管、水洗槽、擠壓 (水)輥、涂膠槽等部分組成。 二、勻膠顯影機工作原理: 顯影系統(tǒng)具有可編程閥,它可以使單注射器試劑滴膠按照蝕刻、顯影和清洗應用的要求重復進行,如沖洗(通常是去離子水或溶劑),然后干燥(通常是氮氣)后的處理步驟。采用此序貫閥門技術的晶圓片和管道在*干燥的環(huán)境中開通和關閉處理過程。隔離和獨立的給水器可處在靜態(tài)的位置還可以蓋內調節(jié)。勻膠顯影機還有可選擇的動態(tài)線性或徑向滴膠的特性。 三、勻膠顯影機主要性能指標: 1、腔體尺寸:9英寸 (220 毫米); 2、Wafer&芯片:直徑6英寸(150毫米)的晶圓片或者5x5英寸(125毫米)的方片; 3、非真空托盤:聚丙烯材質非真空托盤,可承載2、3英寸及150毫米的晶圓片-并帶有背面清洗功能; 3、轉動速度:0-12,000rpm, 5、馬達旋涂轉速:穩(wěn)定性能誤差 < ±1%; 6、工藝時間設定:1-5999.9 sec/step 0.1 精度; 7、高精度數(shù)碼控制器:PLC控制,設置點精度小于0.006%; 8、程序控制:可存儲20個程序段,每個程序段可以設置51步不同的速度狀態(tài); 9、分辨率:分辨率不超過1轉/分,可重復性不超過1轉/分,美國國家標準技術研究院(NIST)認證過的,并且無需再校準!] 10、腔體開關蓋板:透明ECTFE材質圓頂蓋板,便于實時進行可視化操作; 11、腔體材質說明:用聚丙烯材質制成的帶有聯(lián)動傳感觸點的合瓣式艙體; 13、配套真空泵系統(tǒng):無油型 220~240伏交流,50/60赫茲; |
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