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你了解NXQ4006光刻機(jī)嗎?先從其工作過(guò)程開(kāi)始吧!

更新時(shí)間:2022-03-25      點(diǎn)擊次數(shù):670
 
  NXQ4006光刻機(jī)(lithography)又名:掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī),曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等,是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù),把掩膜版上的精細(xì)圖形通過(guò)光線的曝光印制到硅片上。通俗易懂的說(shuō),光刻機(jī)就是在制造芯片時(shí)*的工具,沒(méi)有光刻機(jī)就沒(méi)有芯片。
  NXQ4006光刻機(jī)工作過(guò)程詳細(xì)介紹
  1.打開(kāi)NXQ4006光刻機(jī)電源開(kāi)關(guān),(右表板上標(biāo)有“電源”字的開(kāi)關(guān)),燈亮,氣壓表顯示數(shù)值。
  此時(shí)檢查左表板上的“系統(tǒng)真空”表,看是否保持真空度≥-0.07MPa以上,否則要檢查漏氣原因并消除之。
  2.打開(kāi)汞燈電源(左表板上標(biāo)有“汞燈”字樣的開(kāi)關(guān)),指示燈亮。
  此時(shí)觀察電流表指針,直到指到4A左右,說(shuō)明汞燈已點(diǎn)燃。
  至少要15分鐘以后,汞燈亮度才能穩(wěn)定,操作者才能進(jìn)行以下工作。
  3.調(diào)節(jié)NXQ4006光刻機(jī)氣壓(左表板)
  觀察進(jìn)氣壓力,是否≥0.3Mpa,然后調(diào)節(jié)“給定壓力”=0.1kg/cm2。
  4.“真空吸版”
  將版放到版夾盤上,按“真空吸版”開(kāi)關(guān)(面板上標(biāo)有“吸版”字樣的開(kāi)關(guān)),指示燈亮。版被吸牢。如果“系統(tǒng)真空表”因這一動(dòng)作而掉表,應(yīng)查明原因,是否版不平,或者版和版夾盤上有雜物。
  5.“真空吸片”
  檢查承片臺(tái)表面是否清潔,放上片,按“真空吸片”開(kāi)關(guān),(面板上標(biāo)有“吸片”字的開(kāi)關(guān))燈亮,片被吸牢。
  如果片的底面不平,片不規(guī)則(如碎片)等,片的吸牢程度降低,而且“系統(tǒng)真空表”有掉表現(xiàn)象,如果嚴(yán)重,將影響吸片牢度。
  6.光刻機(jī)承片臺(tái)上升并使片頂版。
  NXQ4006光刻機(jī)是半導(dǎo)體生產(chǎn)制造的主要生產(chǎn)設(shè)備之一,也是決定整個(gè)半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝水平高低的核心技術(shù)機(jī)臺(tái)。半導(dǎo)體技術(shù)發(fā)展都是以光刻機(jī)的光刻線寬為代表。光刻機(jī)通常采用步進(jìn)式(Stepper)或掃描式(Scanner)等,通過(guò)近紫外光(NearUltra-Vi—olet,NUV)、中紫外光(MidUV,MUV)、深紫外光(DeepUV,DUV)、真空紫外光(VacuumUV,VUV)、極短紫外光(ExtremeUV,EUV)、X-光(X-Ray)等光源對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光,使得晶圓內(nèi)產(chǎn)生電路圖案。一臺(tái)光刻機(jī)包含了光學(xué)系統(tǒng)、微電子系統(tǒng)、計(jì)算機(jī)系統(tǒng)、精密機(jī)械系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等構(gòu)件。
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